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分子泵:分子泵在国外半导体领域里的许多工艺场合是用来代替低温泵,尤其是溅射、刻蚀和LCVD等装置都采用复合分子泵和牵引泵作为主泵。由于分子泵对水蒸气的抽速仅为同口径低温泵抽速的四分之一,所以分子泵的排气时间比低温泵长。为了提高抽速,国外在分子泵的入口侧装一个-130℃~-150℃的低温冷板,称之为低温分子泵,水蒸气被低温板捕获,其他气体则由分子泵抽走。这种低温分子泵在真空镀膜装置上应用,既提高了生产效率又改善了膜层质量。随着中国半导体工业、薄膜产业和科学研究事业迅速发展,分子泵应该是中国真空泵制造业发展的重点。首先,分子泵要从小到大建立完整系列,以满足不同场合的需要。
吸气剂泵:它是一种利用吸气剂以化学结合方式捕获气体的真空泵。吸气剂通常是以块状或沉积新鲜薄膜形式存在的金属或合金。升华泵即属于这种形式。吸气剂离子泵:它是使被电离的气体通过电磁场或电场的作用吸附在有吸气材料的表面上,以达到抽气的目的。它有如下几种型式。(1)蒸发离子泵:泵内被电离的气体吸附在以间断或连续方式升华(或蒸发)而覆在泵内壁的吸气材料上,以实现抽气的一种真空泵。(2)溅射离子泵:泵内被电离的气体吸附在由阴极连续溅射散出来的吸气材料上,以实现抽气目的的一种真空泵。低温泵:利用低温表面捕集气体的真空泵按其真空度可以分为:粗真空、高真空、超高真空三大类。
内走漏的影响: 在整个钢液处置过程中, 体系的真空度是跟着钢液的放气量的削减而不断升高的。在钢液处置前期, 体系真空度低, 放气量大, 需求前级泵的抽气才能大, 通常选用多个泵并联的方式增大体系的抽气量。而当体系真空度不断升高时, 体系的放气量也随之削减, 为了下降蒸汽耗量, 节省能源, 需封闭前级并联泵中的若干只。泵布局图中的3A、3B、4A、4B 被称作前级泵, 或叫预抽泵,B1、B2叫增压泵。当全泵投入时, B1、B2 开, 3B、4B 泵封闭。在布局图中可见体系是经过两个逆止阀与3B、4B 泵进行衔接的, 若是这两个逆止阀开关不到位,或许有走漏, 都会给体系的才能形成影响尤其是阀的走漏会形成体系短路, 使上一级泵因背压过高而无法正常作业, 呈现二重真空表象。其次, 真空泵的喷嘴是由两部分组成的, 这两部分是靠法兰衔接的,关于联接法兰在泵体内的真空泵, 若联接处因为密封等缘由形成蒸汽的走漏, 也会给泵的功能形成影响。
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